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根据参考内容,近接式光刻机并未卖给老大哥换外汇。江阳团队研制的近接式光刻机主要用于解决华国集成电路“有无”问题,以突破更高集成度的技术瓶颈(如128集成度集成电路)[135]。 江阳计划对外出售的是... 全文
东芯半导体研发光刻机的目标包括多个阶段: 初期目标为450纳米,研发出“东芯一号”光刻机,可生产800纳米到350纳米的芯片[116][164][785]。 第二代目标为365纳米,计划通过该机型... 全文